TL;DR:
- Intel Foundry ya fabrica capas específicas del Panther Lake (Core Ultra Series 3) con la litografía High NA EUV de ASML en su planta de Hillsboro, Oregon, según confirmó ASML el 15 de julio de 2026.
- La máquina TWINSCAN EXE tiene un costo aproximado de 400 millones de dólares, según reportó HotHardware, y ya iguala el rendimiento (yields) de las líneas EUV estándar en producción real.
- ASML reportó el mismo día ventas trimestrales de 9.3 mil millones de euros y elevó su pronóstico de ingresos para todo 2026 a un rango de entre 43 y 45 mil millones de euros.
Intel se convirtió este miércoles en la primera compañía en enviar a clientes chips lógicos de alto volumen fabricados con High NA EUV, la generación más avanzada de litografía de ASML para semiconductores. La firma neerlandesa confirmó el hito en un comunicado oficial: Intel Foundry ya usa esta tecnología para procesar capas específicas de sus procesadores Intel Core Ultra Series 3, con nombre en código Panther Lake, construidos sobre el nodo Intel 18A en su planta de Hillsboro, Oregon. El anuncio llegó el mismo 15 de julio de 2026 en que ASML publicó resultados trimestrales sólidos y subió su pronóstico de ingresos para todo el año, impulsado por la demanda de chips para inteligencia artificial.
Intel y ASML llevan más de una década desarrollando litografía EUV juntas. Lo distinto de este anuncio es que ya no se trata de pruebas de laboratorio: es la primera vez que un fabricante envía a clientes un producto lógico de alto volumen hecho con esta tecnología.
La apertura numérica salta de 0.33 a 0.55
Las máquinas EUV que hoy fabrican la mayoría del Panther Lake imprimen patrones con luz ultravioleta extrema de 13.5 nanómetros, una apertura numérica de 0.33 y una resolución de 13 nanómetros. High NA EUV es la generación de litografía que ASML desarrolló para elevar esa apertura a 0.55 y llegar a una resolución de apenas 8 nanómetros: una lente que capta un cono de luz más ancho y lo enfoca en un punto más fino, algo parecido a lo que gana una cámara al abrir más el diafragma.
Esa diferencia técnica tiene un efecto práctico directo. Con mayor apertura, la máquina imprime en una sola pasada patrones que antes exigían multipatterning, es decir, varias exposiciones sucesivas sobre la misma capa para lograr la misma densidad. Según ASML, menos pasos de proceso significan menos defectos, menor costo y ciclos de fabricación más cortos.
Panther Lake ya se vende; lo que cambia es la fábrica
Aquí conviene aclarar un matiz. Panther Lake lleva meses en tiendas: Intel lo presentó en el CES el 5 de enero de 2026, abrió preventas al día siguiente y lo puso a la venta de forma global desde el 27 de enero. Después llegaron el Core Ultra X9 378H en abril, la línea de entrada Core Series 3 (nombre en código Wildcat Lake) y los chips Arc G3 para dispositivos portátiles en mayo.
Lo que anunció ASML no es un lanzamiento, sino un cambio en cómo se fabrican algunas capas de ese mismo chip que ya está en el mercado. Intel calificó esas capas para que puedan exponerse tanto en sus máquinas EUV estándar (con apertura 0.33) como en la nueva TWINSCAN EXE High NA (0.55), con obleas intercambiables entre ambas. La industria llama a esto doble calificación, y le permite a Intel repartir la carga de producción entre los dos tipos de máquina sin tocar el diseño final del chip.
En 2024, Intel completó la integración del primer sistema comercial de litografía High NA EUV del mundo, el TWINSCAN EXE:5000, en su planta de Hillsboro. La compañía también fue la primera en instalar y aprobar las pruebas de aceptación de la segunda generación del equipo, el TWINSCAN EXE:5200B, que mejora el rendimiento, la precisión de superposición y la fuente de luz frente a su predecesor. Ese trabajo previo era de investigación y desarrollo. Lo de este miércoles es distinto: producto comercial, en volumen, saliendo de fábrica hacia clientes reales.
"High NA EUV representa un desarrollo sustancial en la litografía de semiconductores", dijo Christophe Fouquet, presidente y CEO de ASML.
El directivo añadió que la compañía se enorgullece de contribuir a un patronado más fino y denso, capaz de acelerar los avances en inteligencia artificial y otras tecnologías emergentes. Naga Chandrasekaran, vicepresidente ejecutivo y gerente general de Intel Foundry, explicó por su parte que el hito refleja la colaboración técnica entre ambas empresas y muestra que High NA EUV ya puede integrarse a gran escala en manufactura avanzada. Según Chandrasekaran, calificar estas capas del Intel 18A le da a la flota actual de herramientas de Intel más margen de producción, mientras la compañía prepara los próximos nodos con mejor rendimiento, densidad y flexibilidad de manufactura de punta.
ASML también subió su pronóstico para todo el año
El mismo 15 de julio, ASML publicó su reporte del segundo trimestre de 2026, con cifras que respaldan la fortaleza detrás del anuncio:
- Ventas netas de 9.3 mil millones de euros (unos 10.6 mil millones de dólares) y utilidad neta de 2.9 mil millones de euros (3.3 mil millones de dólares).
- 86 sistemas de litografía nuevos vendidos en el trimestre, más 5 equipos usados.
- Guía para el tercer trimestre de entre 11 y 12 mil millones de euros en ventas.
- Pronóstico de ingresos para todo 2026 elevado a un rango de entre 43 y 45 mil millones de euros (entre 49 y 51 mil millones de dólares).
Fouquet atribuyó la fortaleza de los resultados a la combinación de una demanda sostenida de los clientes de ASML y a la capacidad de la compañía para responder a esa demanda gracias a su cadena de suministro y sus equipos de instalación en campo. El directivo explicó además que las inversiones en inteligencia artificial siguen impulsando la demanda de chips lógicos y de memoria avanzados, lo que lleva a los clientes de ASML a acelerar sus propios planes de expansión de capacidad. La compañía ya trabaja en sumar cerca de 30% de capacidad de producción de máquinas EUV en 2027 frente a 2026, con otro incremento similar en estudio para 2028.
Para Intel, el anuncio llega mientras la compañía busca demostrar avances concretos en su negocio de fundición para atraer clientes externos. Sus acciones subieron 2.48% en operaciones previas a la apertura del mercado este miércoles, hasta 110.42 dólares, según datos de Benzinga Pro. Intel reportará resultados trimestrales el 23 de julio de 2026. ASML e Intel, mientras tanto, ya preparan la extensión de High NA hacia el nodo Intel 14A, donde la nueva litografía se aplicaría a las capas de trazo más fino del diseño.
Preguntas rápidas sobre High NA EUV
¿Qué es la litografía High NA EUV?
Es la nueva generación de litografía ultravioleta extrema de ASML, con una apertura numérica de 0.55 frente al 0.33 de los equipos actuales. Imprime patrones con una resolución de 8 nanómetros, frente a los 13 nanómetros del EUV estándar, y reduce la necesidad de multipatterning en la fabricación de chips avanzados.
¿Ya se puede comprar una laptop con el chip Panther Lake?
Sí. Intel puso el Panther Lake, sus procesadores Core Ultra Series 3, a la venta desde el 27 de enero de 2026. El anuncio de ASML se refiere a capas específicas de ese mismo producto, que ahora también se fabrican con la litografía High NA EUV.
¿Cuánto cuesta una máquina de litografía High NA EUV?
Según reportó HotHardware, cada máquina TWINSCAN EXE High NA tiene un costo aproximado de 400 millones de dólares. ASML no ha confirmado esa cifra de forma oficial, aunque coincide con estimaciones previas de la industria sobre este tipo de equipos.
